第四百零四章 界面处的缺陷还是太多（2 / 2）

量。”

面对这些艰巨的挑战，团队展开了长期的研究探索。

他们利用先进的计算模拟手段，对新型材料体系进行了海量的理论试算和参数优化。

随后，实验组和工艺组加班加点，合成和制备出大量的新型纳米材料样品。

“这个共掺杂的再生陶瓷材料，热导率和机械性能明显好于传统的单掺杂体系。”

材料实验室的林萍激动地说：“我们用它制作的增益介质，兆瓦激光输出时就不会出现热破坏问题了。”

“不过，它在界面处的缺陷还是太多。”

结构分析实验室的李虎摇了摇头：“退火工艺还需要持续优化，否则缺陷会增加光子散射，影响光束质量。”

为了解决这些“顽疾”，团队开展了一系列新的理论研究和原位表征。

他们借助同步辐射光源，对陶瓷激光增益介质的生长机理进行了高分辨原位观测，揭示了界面缺陷的根源。

他们引入了多场耦合模型，模拟了材料制备过程中的温度场、应力场和相变行为，为精准控制陶瓷生长提供了理论指导。

“终于找到了突破口！”

材料工艺课题组的曹璐兴奋地说：“通过优化升温曲线和保温时间，我们已经成功在实验室规模降低了缺陷密度，现在就是把工艺放大到半工业化水平了。”

与此同时，针对泵浦光源，张恒等人也在不遗余力地推进着研究。